Nanoimprint光刻

功能

• 灵活和低成本的光刻
• 纳米模式的表面复制低至10纳米的表面功能化
• 温热或紫外线零，可控制润湿
• 热压花
• 同时热和UV （STU®）压印工艺
• 采用专利软压®技术
• 加热均匀，温度设置范围广
• 使用范围广泛的压印聚合物